C11000 de cobre para unidades de deposición

El cobre C11000 tiene una dureza de 45 hrb, otro parámetro importante de sus propiedades mecánicas. La dureza se refiere a la capacidad de un material para resistir el rasguño o la sangría, y también es un indicador importante de la resistencia al desgaste de un material. Para el cobre C11000, su dureza moderada asegura que sea menos susceptible al desgaste y la deformación durante el uso.

Características del cobre C11000 en el campo de los dispositivos de deposición:
Substratos y objetivos: en procesos como la deposición de vapor físico (PVD) y la deposición de vapor químico (CVD), los sustratos y los objetivos son los componentes centrales que permiten la deposición de películas delgadas, y el cobre C11000 es la opción ideal para la fabricación de estos componentes debido a su excelente conductividad eléctrica y propiedades de resistencia eléctrica baja, lo que garantiza la calidad y la homenificación de las películas.
Elementos de calefacción: se requiere un control de temperatura preciso durante el proceso de deposición para garantizar la calidad de la película, y el cobre C11000 a menudo se usa como un elemento de calentamiento debido a su excelente conductividad térmica y resistencia a altas temperaturas, lo que permite una transferencia de calor rápida y uniforme al área de deposición, mejorando la eficiencia y la calidad de la deposición.

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